MEV-FIB

Sistemas de feixe duplo MEV-FIB abrem um mundo de novas capacidades, permitindo aplicações que de outra forma não seriam possíveis de serem alcançadas com qualquer um dos sistemas independentes.
A configuração dos sistemas MEV-FIB é concebida de tal forma que os feixes de íons e elétrons coincidam no mesmo ponto focal, resultando na otimização das diversas aplicações. Tal característica permite a obtenção de imagens de MEV simultâneas durante as tarefas de remoção por FIB – um salto significativo em termo de desempenho e rendimento em todas as operações de FIB que exigem altos níveis de precisão final. O portfólio da TESCAN de FIB-SEM inclui, LYRA3 e GAIA3, ambos com fonte de íons de Ga para tarefas de remoção de alta precisão, bem como FERA3 e XEIA3, as opções FIB de plasma Xe para aplicações de remoção em larga escala. Além disso, a recente versão do FIB com plasma de Xe de alta resolução alcança resoluções menores que 15 nm, ampliando assim a capacidade de padronização da técnica de FIB com plasma de Xe

A linha da Tescan de MEV-FIB, representam o estado da arte em colunas de íons com excelente desempenho. De um lado, a coluna Cobra é uma coluna FIB de fonte de íons de Ga e o instrumento mais preciso para nano remoção capaz de atingir uma resolução de 2,5 nm. De outro lado, a coluna i-FIB é uma poderosa fonte de íons de plasma de Xe gerada por ECR capaz de atingir altas correntes de feixe iônico de até 2 μA para desafiar aplicações de remoção em larga escala: a coluna FIB de plasma de Xe pode executar tarefas de remoção até 50 vezes mais rápidas comparadas a qualquer fonte FIB de íons de Ga convencional.

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