FERA3

A primeira fonte de íons focados (FIB) de plasma de Xe do mundo, totalmente integrada com microscopia eletrônica de varredura (MEV), permitindo correntes extremamente elevadas de íons de até 2 mA, resultando em aumentos da velocidade de remoção que podem ser até 50 vezes mais rápido em comparação com FIBs e fonte convencionais de Ga. Isto faz com que FERA3 seja o instrumento ideal para a realização de tarefas de remoção de grandes volumes que antes eram, ou muito demorados, ou praticamente impossível.
  
Os microscópios eletrônicos de varredura com feixes de íons focalizados (MEV-FIB) abrem um mundo de novas capacidades, permitindo aplicações que de outra forma não seriam possíveis de serem alcançadas com sistemas independentes. A configuração nos sistemas MEV-FIB é tal que os pontos focais de feixes de elétrons e de íons coincidem, o que resulta na otimização das diversas aplicações. Este recurso permite imagens simultâneas de MEV durante as tarefas de remoção FIB - um salto significativo em termos de desempenho e rendimento em todas essas operações FIB que exigem níveis extremamente elevados de precisão. O FERA3 apresenta eletrônica de alto desempenho para uma aquisição de imagens mais rápida, sistema de digitalização ultrarrápido, juntamente com a compensação das aberrações de imagens estática e dinâmica e scripting interno para aplicações definidas pelo usuário.

Principais Características

Óptica eletrônica moderna

  • Exclusivo projeto Wide Field Optics™ com uma lente intermediária (IML), oferecendo uma variedade de modos de trabalho e de exibição com aumento no campo de visão e profundidade de foco.
  • O gerenciamento de feixe em tempo real In-Flight Beam Tracing™ garante o desempenho e a otimização do feixe, permitindo também o controle contínuo e direto dos parâmetros do feixe.
  • Tecnologia de desaceleração do feixe (BDT) para alta resolução a baixas tensões de aceleração.
  • Ajuste e configuração da óptica eletrônica totalmente automatizado
  • Imagens rápidas, com taxas de até 20 ns/pixel
  • Exclusiva imagem estereoscópica ao vivo, utilizando a avançada tecnologia de feixe 3D, abre o micro e nano mundo para uma incrível experiência e navegação 3D

Coluna FIB de plasma de Xe extremamente poderosa

Coluna FIB com íons de plasma Xe para a realização das tarefas de remoção mais desafiantes em grandes escalas, dentro de tempos sem precedentes
  • 50x mais rápido do que um FIB com coluna de Ga.
  • Corrente: 1 pA a 2 µA e resolução < 25 nm
  • Nova Coluna FIB de plasma Xe de alta resolução (Opcional) com resolução <15 nm para extensão da capacidade de modelação
  • Íons de xenônio de grande massa com alta faixa de corrente FIB para remoção ultrarrápida, mesmo sem uso de gases na câmara, como acelerador
  • Redução significativa na implantação iônica com tensões elevadas comparado a coluna de íons de Ga
  • Os átomos de gás de Xe não alteram as propriedades elétricas no entorno da área modelada
  • Sem compostos intermetálicos formados durante a remoção por FIB
FERA3
FERA3

Reconstrução 3D BSE de um IC

 

Tomografia MEV-FIB de uma esfera de solda D4 de 100mm de diâmetro

Catálogo do produto

FERA3 brochure
The world’s first fully integrated Xe plasma FIB-SEM. Download FERA3 brochure!
pdf – 4,2 MB