FIB-MEB

La Microscopía Electrónica de Barrido por haz de iones enfocados (FIB-MEB) combina dos haces (ión y electrón) en un solo instrumento. La columna MEB proporciona imágenes de alta resolución, mientras que la columna FIB permite la modificación de las muestras. Los sistemas de doble haz FIB-MEB abren un mundo de nuevas aplicaciones que de otro modo no sería posible realizar usando cada uno de los sistemas por separado.
La configuración en los sistemas FIB-MEB es tal que los puntos focales del haz de electrones y de iones coindicen, lo que resulta en la optimización de muchas aplicaciones. Esta característica permite obtener imágenes MEB simultáneas durante tareas de fresado FIB - un salto significativo en términos de rendimiento en todas las operaciones FIB que exigen niveles de precisión extrema. La oferta de productos de TESCAN FIB-MEB incluye LYRA3 y GAIA3 los cuales son sistemas FIB con fuente de iones de Ga destinados para tareas de alta precisión.  Incluye también a los sistemas FERA3 y XEIA3 que son FIBs con fuente de plasma de Xe para aplicaciones de fresado a gran escala.  Se cuenta también con un FIB de plasma de Xe con el que se consigue una resolución de menos de 15 nm extendiendo las capacidades de fabricación de muestras y litografía con FIB de plasma de Xe. 


Los TESCAN FIB-MEB están equipados con columnas de iones de última generación con excelente rendimiento. Por un lado, la columna Cobra es una columna FIB con fuentes iones de Ga y el instrumento más preciso para tareas de fresado a nano escalas el cual es capaz de alcanzar una resolución de 2.5 nm a 30 keV. Por otro lado, la columna i-FIB es una poderosa fuente de iones de plasma Xe generada por ECR y capaz de generar altas corrientes de haz iónico de hasta 2 μA las cuales son ideales para las tareas más exigentes de fresado a gran escala. El Xe plasma FIB puede realizar tareas de fresado hasta 50 veces más rápido que cualquier FIB convencional con fuente de iones de Ga. La elección de FIB depende del tipo de aplicación para la que se va a utilizar el sistema. Las columnas Cobra e i-FIB operan dentro de diferentes rangos de corrientes iónicas y por lo tanto, sus aplicaciones son también diferentes. Los iones de Xe son mucho más pesados ​​que los iones de Ga, y por tanto facilitan la remoción de mucho más material en períodos más cortos de tiempo para una corriente iónica dada, característica que es ideal para tareas de fresado a gran escala (volúmenes del orden de 106 μm3). Por otro lado, para aquellas tareas de fresado a pequeñas escalas (volúmenes del orden de 104 μm3) que requieren alta precisión, los sistemas FIB con fuentes de Ga son más convenientes respecto al plasma Xe, ya que las FIB con fuente de iones de Ga logran mejor resolución a bajas corrientes iónicas.