GAIA3

Extraordinaria imagen de alta resolución y nanoingeniería extremadamente precisa
GAIA3 es la plataforma ideal para realizar todas aquellas aplicaciones de nanoingeniería extremadamente difíciles que requieren de la máxima precisión y de las capacidades más exigentes para microanálisis. El desempeño y rendimiento de GAIA3 sobresale en aplicaciones que incluyen la preparación de lamelas ultra delgadas de alta calidad para MET, nanolitografía precisa y reconstrucciones 3D de alta resolución.

GAIA3 en el instrumento ideal para aplicaciones en las que el escaneo de imágenes a energías bajas de haz es esencial para conservar estructuras delicadas en muestras que pueden dañarse fácilmente por el haz de electrones como pueden ser materiales dieléctricos  con una baja constante dieléctrica (low-k), fotorresistencias o especímenes biológicos sin recubrimientos protectores.

Características principales

  • Una combinación única de un objetivo de tres lentes y un modo de escaneo de imagen sin crossover en el camino óptico del haz de electrones
  • Resolución sub-nanométrica: 0.7 nm a 15 keV
  • La mejor ultra-alta resolución: 1 nm a 1 keV
  • Nuevo emisor Schottky FE que permite corrientes de haz de electrones de hasta 400 nA y cambios rápidos de energía del haz
  • Solución ideal para la inspección y procesos avanzados de análisis de fallas en nodos de tecnología de última generación
  • Ideal para escaneo de imágenes de especímenes biológicos delicados 
  • Escaneo de imágenes de muestras magnéticas es posible en el modo libre de campo
GAIA3
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