GAIA3

Extraordinaire imagerie à ultra-haute résolution et nano-ingénierie extrêmement précise
Le GAIA3 est la plate-forme idéale pour réaliser les applications de nano-ingénierie les plus difficiles nécessitant une précision ultime et des capacités exigeantes pour la microanalyse. La préparation de lames MET ultra-minces de haute qualité, les processus de gravure couche par couche, les nanomotifs précis et les reconstructions 3D à  haute résolution ne sont que quelques-unes des applications dans lesquelles GAIA3 excelle.

Ces caractéristiques font que le GAIA3 est l'instrument idéal pour les applications dans lesquelles l'imagerie à faible intensité de faisceau est indispensable pour préserver des structures délicates dans des échantillons qui peuvent être facilement endommagés par le faisceau d'électrons tels que les matériaux diélectriques à faible permittivité, les photorésistants ou les spécimens biologiques sans revêtement. En termes de modification de l'échantillon, le GAIA3 représente la solution la plus appropriée pour défier le nano-usinage et la nanofabrication.

Principales caractéristiques

  • Une combinaison unique constituée d'un objectif à trois lentilles et d'un mode sans crossover
  • Résolution sous-nanométrique: 0,7 nm à 15 keV
  • Ultime haute résolution: 1 nm à 1 keV
  • La nouvelle pointe FEG Shottky permet maintenant des courants de faisceau jusqu'à 400 nA et des changements d'énergie du faisceau rapide
  • Solution idéale pour l’analyse de défaillance sur les technologies les plus avancées dans le domaine de la microélectronique
  • Idéal pour imager des spécimens biologiques délicats
  • Possibilité d'imager des échantillons magnétiques
GAIA3
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GAIA3 brochure
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